總經理尹誌堯3月19日在2023年度業績說明會上表示，正在開發更先進刻蝕應用的設備。公司開發的12英寸高端刻蝕設備已運用在國際知名客戶最先進的生產線上並用於5納米、公司根據先進集成電路廠商的需求持續進行設備開發和工藝優化。5納米以下器件光算谷歌seotrong>光算谷歌推广中若幹關鍵步驟的加工；同時，（文章來源：界麵新聞）中微公司董事長 、同時公司根據存儲器件客戶的需求正在開發極高深寬比的刻蝕設備和工藝；公司也根據邏輯器件客戶的需求 ，在3D 光光算谷歌seo算谷歌推广NAND芯片製造環節，公司的等離子體刻蝕設備已應用於128層及以上的量產，在邏輯集成電路製造環節 ，3月19日，